Quali sono le caratteristiche della maggior parte dello schermo del liquido TFT? I principali sono: ampia area, alta integrazione, potente funzione, basso costo, processo flessibile e ampi campi di applicazione. Di seguito introdurremo in dettaglio le varie caratteristiche dello schermo LCD TFT.
(1) Ampia area: all'inizio degli anni '90, è stata messa in produzione la linea di produzione TFT-LCD di substrato di vetro di ampia area di prima generazione (300 mm x 400 mm). Entro la prima metà del 2000, l'area del substrato di vetro era stata ampliata a 680 mm × 880 mm). Recentemente, anche il substrato di vetro di 950mmx1200mm è stato messo in funzione.
(2) Elevata integrazione: il chip TFT da 1,3 pollici utilizzato per la proiezione a cristalli liquidi ha una risoluzione di XGA contenente milioni di pixel. L'array TFT da 16,1 pollici con una risoluzione di SXGA (1280×1024), lo spessore del film di silicio amorfo è di soli 50 nm e le tecnologie TABONGLASS e SYSTEMONGLASS, l'integrazione di circuiti integrati, i requisiti per le apparecchiature e la tecnologia di fornitura e la tecnica difficoltà superano quelle tradizionali. LSI.
(3) Funzioni potenti: TFT è stato utilizzato per la prima volta come circuito di indirizzamento a matrice per migliorare le caratteristiche della valvola luminosa dei cristalli liquidi. Per i display ad alta risoluzione, attraverso la regolazione della tensione nell'intervallo 0-6 V (il valore tipico è compreso tra 0,2 e 4 V), viene realizzato un controllo preciso dell'elemento oggetto, che consente al display LCD di ottenere alta qualità e alta -visualizzazione ad alta risoluzione.
(4) Basso costo: il substrato di vetro e il substrato di plastica risolvono fondamentalmente il problema dei costi dei circuiti integrati a semiconduttore su larga scala e aprono un ampio spazio di applicazione per l'applicazione di circuiti integrati a semiconduttore su larga scala.
(5) Processo flessibile: oltre alla formazione del film utilizzando processi tradizionali come sputtering, CVD (deposizione chimica da vapore), MCVD (deposizione chimica da vapore molecolare), ecc., Ha anche iniziato ad essere applicata la tecnologia di ricottura laser, che può produrre amorfo possono essere prodotti film, film policristallini e film a cristallo singolo. Non solo può produrre film di silicio, ma anche altri film sottili di semiconduttori del gruppo II-VI e III-V.
(6) Il campo di applicazione è ampio. Il display LCD a schermo piatto basato sulla tecnologia TFT è l'industria pilastro della società dell'informazione. La tecnologia può essere applicata anche al display a schermo piatto a elettroluminescenza organica (TFT-OLED) a transistor a film sottile in rapida crescita. In crescita.
